双阳极X射线源的研发  

Development of Dual X-Ray Source

作　　者：徐宁[1] 杨云[1] 董华军[1] 臧侃[1] 郭方准[1] XU Ning;YANG Yun;DONG Huajun;ZANG Kan;GUO Fangzhun(Institute of Advanced Equipment ＆ Technology,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China)

机构地区：[1]大连交通大学先进装备技术研究所,辽宁大连116028

出　　处：《大连交通大学学报》2018年第5期75-78,共4页Journal of Dalian Jiaotong University

摘　　要：介绍双阳极X射线源,分别以铝(Al)和镁(Mg)作为阳极靶,整体集成在一个CF35超高真空刀口法兰上,结构紧凑.经过性能测试,获得了激发电流、加速电压、灯丝电流和管电流之间的对应关系.该双阳极X射线源可发射Kα特征X射线,用于自然科学领域中光电子的研究.An aluminum（Al） and a magnesium（Mg） thin films are used as dual anode targets. The whole X-ray source is integrated on a CF35 ultra-high vacuum conflat flange. The test results of the X-ray intensity,anode voltage,filament current and emission current are reported.

关 键 词：双阳极X射线源 阳极靶 特征X射线 光电子 

分 类 号：O434.1[机械工程—光学工程]