共溅射TbxFe73Ga27-x薄膜局部结构与磁性关系  

出　　处：《金属功能材料》2018年第5期66-66,共1页Metallic Functional Materials

摘　　要：A．Munaz-Noval等人采用耙材共沉积法，用Tb33Fe67和Fe72Ga28两种耙材共沉积TbxFe73Ga27-x（7≤x≤11）薄膜。TbxFe72Ga28-x的沉积功率为90w，而Tb33Fe67的沉积功率控制在50～90w。采用X射线吸收微细结构谱线测定薄膜结构。

关 键 词：薄膜结构 局部结构 共溅射 磁性 共沉积法 X射线吸收 沉积功率 功率控制 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]