对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法  

出　　处：《表面技术》2002年第5期70-70,共1页Surface Technology

关 键 词：专利 中国科学院沈阳科学食品研制中心 对向异材磁控溅射靶 制备 合金薄膜 工艺方法 溅射速率 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]