Ti-Al-N沉积态薄膜的制备  

作　　者：王蕾[1] 陈楠[1] 刘佳磊[2] 金松哲[2] 

机构地区：[1]长春理工大学光电信息学院机电工程分院 [2]长春工业大学材料科学与工程学院,长春130012

出　　处：《山东工业技术》2016年第18期47-47,共1页Journal of Shandong Industrial Technology

摘　　要：本文以06Cr18Ni9不锈钢作为基体材料,采用多弧离子镀进行Ti-Al-N沉积态薄膜的制备,并研究了多弧离子镀对Ti-Al-N沉积态薄膜表面形貌的影响。研究表明:当氮气通量为40sccm时,Ti-Al-N薄膜膜层表面的大颗粒消失,凹坑变得浅而平整均匀,但当氮气通量超过40sccm时,表面大颗粒反而变多而且分布不均匀,沉积的膜层表面相对较粗糙。

关 键 词：Ti2AlN薄膜 多弧离子镀 表面形貌 

分 类 号：TQ134.11[化学工程—无机化工] TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]