红外增透膜研究与展望  

Research and Prospects of Infrared Antireflection Coatings

作　　者：董超 路海 沈克胜 熊宗刚 刘孝宇 张现周 DONG Chao;LU Hai;SHEN Kesheng;XIONG Zonggang;LIU Xiaoyu;ZHANG Xianzhou(Engineering Laboratory for Optoelectronic Technology and Advanced Manufacturing,College of Physics and Materials Science,Henan Normal University,Xinxiang 453007,China)

机构地区：[1]河南师范大学物理与材料科学学院,光电子技术及先进制造河南省工程实验室,河南新乡453007

出　　处：《红外技术》2018年第3期209-213,共5页Infrared Technology

基　　金：国家自然科学基金项目(11404102),河南省重点科技攻关计划项目(152102210079),河南省教育厅科学技术研究重点项目(14A140002)。

摘　　要：主要就国内红外增透膜的研究与进展,从多个角度综述了红外增透膜的发展、改进与拓展。根据已有研究从材料、仪器与方法等多个方面分析预测了红外增透膜的发展趋势。This paper predominantly summarizes the developments,improvements,and prospects of infrared antireflection coatings.The author also suggests that improvements in materials selection,instruments,and new methods should be emphasized in future studies of infrared antireflection coatings.

关 键 词：红外增透膜 透过率 保护膜 红外光学器件 

分 类 号：TN214[电子电信—物理电子学]