光学邻近效应修正技术发展综述及思考  

作　　者：柯顺魁 

机构地区：[1]上海华力微电子有限公司,上海201203

出　　处：《山东工业技术》2018年第10期207-207,共1页Journal of Shandong Industrial Technology

摘　　要：光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难。本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工艺进行深入思考,提出应强化光学邻近修正模型研发在先进光刻工艺研发中的核心地位,加强光学邻近修正技术的研发。

关 键 词：光学邻近效应修正(OPC) 先进光刻 OPC经验学习 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]