检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:陈冠刚 林周秦 刘镇权 吴培常 Chen Guangang;Lin Zhouqin;Liu Zhenquan;Wu Peichang
机构地区:[1]广东成德电子科技股份有限公司,广东佛山528350
出 处:《印制电路信息》2018年第11期47-51,共5页Printed Circuit Information
摘 要:文章从实验和理论两方面详细阐述了影响镍镀层的因素和改善措施,包括添加剂和pH、温度等,意在提供一个全方位的优化平台。This text discussed effective factors and corrective countermeasure to Ni layer during production by two aspects of practicality and theory in detail.Additives and pH,temperature,etc.,are discussed to provide a comprehensive optimization platform.
分 类 号:TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]
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