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检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:黎小阳 郭崇武[1] 刘永 LI Xiao-yang;GUO Chong-wu;LIU Yong(Guangzhou Ultra Union Chemicals Ltd.,Guangzhou 510460,China)
出 处:《电镀与涂饰》2019年第3期119-120,共2页Electroplating & Finishing
摘 要:描述了一次硫酸盐三价铬镀黑铬中镍杂质含量超过工艺上限时,高电流密度区镀层出现粗糙故障的排除过程。用二乙基二硫代氨基甲酸钠螯合沉淀法或电解法去除镍杂质后补加发黑剂,镀液恢复正常。A problem of rough coating formation in high current density area caused by the exceeding of nickel impurities content during trivalent black chromium electroplating in sulfate electrolyte and the corresponding treatment method were described.It was solved by removing nickel impurities via precipitation with sodium dimethyldithiocarbamate,a chelating agent,or via low-current electrolysis,and replenishing the blackening agent.
关 键 词:三价铬镀黑铬 镍杂质 镀层粗糙 螯合沉淀法 小电流电解法 故障排除
分 类 号:TQ153.11[化学工程—电化学工业]
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