检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]不详
出 处:《真空》2019年第3期I0004-I0005,共2页Vacuum
摘 要:第十四届国际真空科学与工程应用学术会议(VSEA2019),将于2019年8月4~7日在沈阳东北大学隆重召开。其前身为国际真空冶金与表面工程学术会议,是真空科技领域的重要系列学术会议,由中国真空学会真空冶金专业委员会、真空工程专业委员会、真空咨询工作委员会、真空技术与物理重点实验室联合主办,每两年召开一次,参会代表覆盖多个国家和地区,在国内外真空科技学术领域和工程领域具有重要的影响力和良好的声誉,得到各界同仁一致认可,已连续召开多届,并多次与出版社联合出版了论文集。
关 键 词:学术会议 真空科学 表面工程 应用 专业委员会 中国真空学会 真空冶金 重点实验室
分 类 号:TB71[一般工业技术—真空技术]
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