纳米ITO粉体的团聚与分散分析  

作　　者：杨扬 傅清波 谢梦 

机构地区：[1]株洲冶炼集团股份有限公司

出　　处：《新材料产业》2019年第8期54-57,共4页Advanced Materials Industry

摘　　要：铟锡氧化物(ITO)是一种N型半导体材料,通常包括ITO粉体、ITO靶材以及ITO导电薄膜。目前制备ITO粉体常见的方法有:水热合成法、共沉淀法机械混合法和喷雾热分解法。其中,国内主要以化学沉淀法为主,该方法具备制备成本低、方法简单、易于工业化生产优点,但最大的缺点是易出现纳米颗粒的团聚[1]。

关 键 词：纳米ITO 粉体 团聚 分散 喷雾热分解法 半导体材料 铟锡氧化物 ITO靶材 

分 类 号：TB383.3[一般工业技术—材料科学与工程]