利用甲烷—硅烷高能离子束的非晶SixC1—x薄膜的生长  

作　　者：马兵 

出　　处：《等离子体应用技术快报》2000年第12期17-19,共3页

关 键 词：硅晶片 非晶碳薄膜 离子束沉积 甲烷-硅烷高能离子束 非晶SixC1-x薄膜 生长 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TN304.055[理学—物理]