磁控共溅射制备（Sb2Se3）1—xNix合金薄膜及其可擦除光记录特性  

作　　者：薛松生 范正修 

出　　处：《薄膜科学与技术》1992年第4期6-10,共5页

关 键 词：光存贮 光记录 薄膜 SbSeNi 

分 类 号：TP333.4[自动化与计算机技术—计算机系统结构]