PZT／LSCO集成薄膜的微结构性质研究  

作　　者：于文学[1] 刘保亭 等 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所和凝聚态物理中心，北京100080 [2]国家超导重点实验室和凝聚态物理中心，北京100080

出　　处：《同步辐射装置用户科技论文集》1999年第1期279-282,共4页

摘　　要：本文主要利用X射线衍射技术研究由直流／射频磁控溅射方法制备的PbZr0.53Ti0.47O3(PZT)/La1.85Sr0.15CuO4(LSCO)集成薄膜的界面和表面的微结构，从而给出它的界面和表面的均方根粗糙度，有效晶粒尺寸，应变大小，用计算反射率方法对小角衍射曲线做理论模拟，从我们的实验结果可见，当所制备的铁电／超导薄膜PZT层厚度从48．7nm到996．0nm变化而LSCO层保持1000？不变时，PZT与LSCO的应变状态不同，相差近一个数量级，同时PZT层表面的均方根粗糙度略有增加，本报告对实验结果作了初步讨论。

关 键 词：薄膜 集成器件 X射线衍射 微结构 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]