Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量  

出　　处：《分析化学》2019年第8期1133-1133,共1页Chinese Journal of Analytical Chemistry

摘　　要：发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试,检测结果与客户化学法基本一致。

关 键 词：电感耦合等离子体原子发射光谱法 电感耦合等离子体发射光谱仪 工业硅 杂质元素含量 化学分析方法 参照标准 PLASMA 对比测试 

分 类 号：TQ1[化学工程]