硅烷共缩合制备耐紫外光超疏水减反射涂层  

出　　处：《有机硅材料》2019年第5期389-389,共1页Silicone Material

摘　　要：常州大学石油化工学院的李怡雯等人采用四甲氧基硅烷(TMOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)共缩合,并利用甲氧基三甲基硅烷(MMS)进行轻基封端,制备了可以稳定两个月以上的均一溶胶。通过控制MTES和TMOS的水解工艺条件,采用浸渍提拉法制备了在400~800 nm波段平均透光率为97.06%、最高透光率为98.27%、水接触角为165。的超疏水减反射涂层,并提出了MTES/TMOS/MMS溶胶的共缩合反应机理。涂层经过紫外光耐久测试1080 h后,涂层仍具有良好的减反射性能、疏水性和抗刻划强度,表现出良好的紫外光耐久性。

关 键 词：四甲氧基硅烷 超疏水 浸渍提拉法 紫外光 水接触角 共缩合 MTES 

分 类 号：TG1[金属学及工艺—金属学]