检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]厦门大学航空航天学院,福建厦门361102 [2]福建省等离子体与磁共振研究重点实验室,福建厦门361102
出 处:《海峡科学》2019年第10期3-10,共8页Straits Science
基 金:国家自然科学基金项目(编号:51707169);中央高校基本科研业务费(编号:20720170057,20720180071);厦门大学大学生创新创业训练计划项目(编号:201810384272)
摘 要:为考察等离子体合成射流流动控制效果,在NACA0021二维机翼模型上安装单个等离子体合成射流,开展低速风洞试验。采用烟流显示技术,定性观察了不同攻角和加载电参数下等离子体合成射流对流动分离的控制效果,并使用PIV技术对流动控制效果进行了定量研究。实验结果表明,在一定频率范围内(80~240 Hz),频率增加会减弱射流流动控制能力;加载电压幅值的影响较小;在一定范围内提高占空比(5%~15%),可增强射流的流动控制能力;在一定攻角范围内(0~19°),烟流流动显示结果与PIV测量所得的规律相似,在小攻角下,等离子体合成射流使得翼型吸力面层流变为紊流;在大攻角下,射流则起到抑制流动分离的作用,随着攻角的增加,抑制流动分离的效果减弱。
关 键 词:主动流动控制 等离子体合成射流 烟流流动显示 PIV 二维翼型
分 类 号:V231[航空宇航科学与技术—航空宇航推进理论与工程] V249
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