退火条件对氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响  

作　　者：杨勇[1,2] 姚婷婷 李刚[1,2] 金克武 王天齐[1,2] 马立云 

机构地区：[1]中建材蚌埠玻璃工业设计研究院 [2]浮法玻璃新技术国家重点实验室,蚌埠233018

出　　处：《建筑玻璃与工业玻璃》2019年第12期7-10,6,共5页Architectural Glass and Functional Glass

摘　　要：利用射频磁控溅射技术,在室温下用TiO2陶瓷靶在玻璃基底上制备N掺杂TiO2薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪和紫外可见光分光光度计研究了不同退火条件对薄膜的微观结构和光学性能的影响。实验结果表明:真空退火后的薄膜结晶性能均较差,随着退火温度的升高,薄膜表面的缺陷增加,薄膜内部的N含量均减少,禁带宽度从2.83eV增加到3.21eV;常压条件下退火,薄膜的结晶性变优,晶粒变大,薄膜内部N含量减少,禁带宽度增加到2.93eV。

关 键 词：退火条件 紫外可见光分光光度计 X射线光电子能谱仪 薄膜性能 氮掺杂二氧化钛 射频磁控溅射技术 玻璃基底 真空退火 

分 类 号：TB3[一般工业技术—材料科学与工程]