第二十讲 真空离子镀膜  

No.20:Vacuum ion plating

作　　者：张以忱 ZHANG Yi-chen

机构地区：[1]东北大学

出　　处：《真空》2020年第1期94-96,共3页Vacuum

摘　　要：(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可调,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展运动均匀,靶面刻蚀均匀。

关 键 词：可调范围 靶电流 电弧蒸发 高真空 边扩展 靶面 真空离子镀膜 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]