以MVC为基础的CMP软件模块开发分析  

作　　者：邱海斌[1] 

机构地区：[1]沈阳广播电视大学,辽宁沈阳110003

出　　处：《电子元器件与信息技术》2020年第3期118-119,共2页Electronic Component and Information Technology

摘　　要：在应用化学机械抛光技术(CMP)软件的过程中存在一些问题,其工艺控制种类比较多,并且在此基础上软件系统相对较为复杂,运行参数数据量大,这在较大程度上不利于CMP软件的正常应用。为此,将MVC应用在CMP软件设计中,不但能够有效降低软件模块之间的耦合性,而且使程序维护性与复用性实施有效提升。本文首先阐述MVC架构原理,而后深入探讨MVC在CMP软件中的应用,最后探究了基于MVC架构的子模块设计,以此提出几点宝贵意见,仅供参考。

关 键 词：MVC原理 CMP软件 软件模块设计 特点 

分 类 号：TP311[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]