检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:薄鑫涛
机构地区:[1]不详
出 处:《热处理》2020年第3期51-51,共1页Heat Treatment
摘 要:工件装入真空炉后开始抽气至0.1Pa的真空,通电升温加热,工件达到要求的渗氮温度后(一般520~560℃),保温一段时间(30~60min,视装炉量而定),净化工件表面和透热,然后停止抽真空,向炉内通入渗氮气体(氨气等),使炉压升高至50~70Pa,保持一定时间(2~5min),再抽真空至5~10Pa,并保持一定时间,停抽,再通入氨气至50~70Pa,如此反复多次“充气-抽气”,直到渗层达到要求为止,最后降温至一定温度(200~300℃)出炉。在整个渗氮过程中炉温可保持不变或变动。
关 键 词:真空炉 渗氮 炉压 氮化工艺 渗层 工件表面 抽真空 装炉量
分 类 号:TG156.82[金属学及工艺—热处理]
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