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作 者:乐少文 李月明 沈宗洋 王竹梅 宋福生 高轶群 Le Shaowen;Li Yueming;Shen Zongyang;Wang Zhumei;Song Fusheng;Gao Yiqun(China National Light Industry Key Laboratory of Functional Ceramic Materials,Energy Storage and Conversion Ceramic Materials Engineering Laboratory of Jiangxi Province,School of Materials Science and Engineering,Jingdezhen Ceramic Institute,Jingdezhen 333403,China)
机构地区:[1]景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院中国轻工业功能陶瓷材料重点实验室江西省能量存储与转换陶瓷材料工程实验室,江西景德镇333403
出 处:《稀有金属》2020年第3期295-302,共8页Chinese Journal of Rare Metals
基 金:国家自然科学基金项目(51462010);江西省自然科学基金项目(20161BAB206132,20171ACB20022)资助。
摘 要:采用氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)、正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,以SiO2包裹γ-Ce2S3(γ-Ce2S3@SiO2)为呈色剂,通过复合包裹法制备了SiO2/ZrSiO4复合包覆型γ-Ce2S3(γ-Ce2S3@SiO2/ZrSiO4)。系统研究了水热温度、混合液pH值、聚乙烯吡络烷酮(PVP)的添加量及不同的nCc/nZr等对合成包裹色料的影响,得到了合成γ-Ce2S3@SiO2/ZrSiO4的最佳条件。研究发现,基于色料的发色以及温度稳定性能,当nCc/nZr=1,PVP添加量为γ-Ce2S3@SiO2质量的20%时,调节混合液pH=9,经210℃水热反应12 h能够得到温度稳定性能较好的红色γ-Ce2S3@SiO2/ZrSiO4,其红度值(a*)为26.73。透射电子显微镜(TEM)结果表明利用正硅酸乙酯(TEOS)水解合成出了核壳结构的γ-Ce2S3@SiO2呈色剂,二次包裹后,在SiO2表面形成了ZrSiO4吸附层。通过差热-热重(DTA-TG)结果可知,γ-Ce2S3@SiO2/ZrSi04相比γ-Ce2S3@SiO2,其温度稳定性能提升了147℃。γ-Ce2 S3@SiO2/ZrSiO4 red inclusion pigment was synthesized by composite coating method,using zirconium tetrachloride and tetraethysilance as precursor,γ-Ce2 S3@SiO2 as colorant.The effects of hydrothennal temperature,pH value,amount of polyvinylpyrrolidone(PVP),and Ce/Zr molar ratio(nCc/nZr) on synthesis of encapsulation pigments were studied.It was found that the best γ-Ce2 S3@SiO2/ZrSi04 pigment was achieved based on the color and temperature stability of the pigment,when the nCc/nZr=1,and the amount of PVP was 20%(mass fraction) of γ-Ce2 S3@SiO2,the pH value was 9 and reacted at 210℃ for-12 h,and its redness value(a*) was 26.73.Transmission electron microscope(TEM) results showed that the core-shell γ-Ce2 S3@SiO2 colorant was synthesized by hydrolysis of Si(OC2 H5)4(TEOS),after the second parcel,ZrSi04 was adopted on the surface of the SiO2 layer.According to differential thermal analysis-thennogravimetric analysis(DTA-TG) results,compared with γ-Ce2 S3@SiO2,the temperature stability of γ-Ce2 S3@SiO2/ZrSi04 could increase by 147℃.
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