半导体生产用剧毒气体解毒技术研究  

作　　者：孙福楠[1] 

机构地区：[1]中昊光明化工研究设计院有限公司

出　　处：《深冷技术》2020年第3期22-25,共4页

摘　　要：在半导体制造过程中,需要使用大量有毒气体,这些气体易燃、易爆,对人体及环境有危害。为了确保1C等新型半导体材料产业顺利发展,开展气体解毒研究意义重大。传统的采用酸、碱、氧化剂的湿法解毒工艺,存在许多弊病。近年来,剧毒气体干法解毒技术发展迅猛。结合研制成功的干法解毒装置,介绍干法解毒的原理、工艺流程、催化剂的选择以及存在的问题。最后提出一种解毒组合工艺。

关 键 词：半导体 剧毒有害气体 干法解毒 组合工艺 

分 类 号：F42[经济管理—产业经济]