中科院苏州纳米所5nm激光光刻研究获进展  

出　　处：《智能城市》2020年第13期86-86,共1页Intelligent City

摘　　要：苏州纳米所张子旸团队基于光热反应机理设计开发了一种新型三层堆叠薄膜结构。在无机钛膜光刻胶上,采用双激光束(波长为405nm)交叠技术,通过精确控制能量密度及步长,实现了1/55衍射极限的突破(NA=0.9),达到了最小5 nm的特征线宽。

关 键 词：光刻胶 线宽 能量密度 衍射极限 薄膜结构 反应机理 堆叠 精确控制 

分 类 号：TN24[电子电信—物理电子学] TB306[一般工业技术—材料科学与工程]