“ART+CCODeV”光学分析软件在PCB、FPC曝光中的应用  

作　　者：黄凯龄 邬通芳 Kai-ling Huang

机构地区：[1]广东成德电子科技股份有限公司

出　　处：《印制电路资讯》2020年第4期114-117,共4页Printed Circuit Board Information

摘　　要：本文简要地介绍了“ART+CCODeV”光学分析软件在PCB、FPC曝光中应用及实操过程,这些功能对PCB、FPC曝光成像分析、优化和评估尤为重要,它减少了工程师们在PCB、FPC曝光成像分析、优化和评估中那些繁缛的细节,使得分析、优化和评估变得轻松起来。

关 键 词：ART+CCODeV光学分析软件 曝光能量分布 照度分布 吸光强度 平行度 鬼影 

分 类 号：TN4[电子电信—微电子学与固体电子学]