浅谈专利技术综述对专利实质审查的裨益  

作　　者：孟凡娜[1] 徐玉祥 

机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作广东中心,广东广州510000

出　　处：《科学技术创新》2020年第22期160-161,共2页Scientific and Technological Innovation

摘　　要：以对半导体晶片切割胶带领域的全球专利技术综述为切入点,浅谈将专利技术综述应用到日常审查实践中对提高正确理解发明,准确、高效命中最相关的现有技术、提高审查效率与质量的裨益之处。

关 键 词：半导体晶片切割 专利技术综述 专利实质审查 

分 类 号：G306[文化科学]