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作 者:任玉宝 李丹 张弟 王帅 Ren Yubao;Li Dan;Zhang Di;Wang Shuai(Liaoning Zhongwang Group Co., Ltd., Liaoyang 111003, China)
出 处:《有色金属加工》2020年第5期57-59,共3页Nonferrous Metals Processing
摘 要:对所合成三种铝合金氧化膜(硫酸氧化膜、草酸氧化膜、磷酸氧化膜)分别进行抗热裂性测试,其中草酸氧化膜抗热裂性明显好于另外两种,抗热裂温度可达74℃,相比另外两种氧化膜抗热裂温度提高12℃;对采用三种封孔工艺(常温封孔、中温封孔、高温封孔)处理的硫酸氧化膜分别进行抗热裂性测试,其抗热裂性大小为,高温封孔>中温封孔>常温封孔,呈现封孔温度越高抗热裂性越强的趋势,其高温封闭氧化膜抗热裂性最高可达120℃;电解槽中铝离子浓度可影响氧化膜抗热裂性,当铝离子浓度高于15g/L时,氧化膜抗热裂性急剧下降。In this paper,three kinds of aluminum alloy oxide films(sulfuric oxide film,oxalic acid oxide film,phosphoric acid oxide film)are tested for thermal crack resistance.Oxalic acid oxide film has better thermal crack resistance than other two films.The temperature of thermal cracking resistance is up to 74°C,which is 12°C higher than the other two films;the thermal cracking resistance is:high temperature hole sealing>medium temperature hole sealing>room temperature hole sealing,showing a trend that the higher the sealing temperature,the stronger the thermal cracking resistance,its high temperature closed oxide film can resist thermal cracking up to 120°C.The concentration of aluminum ions in the electrolytic cell can affect the thermal cracking resistance of the oxide film.When the aluminum ion concentration is higher than 15g/L,the thermal cracking resistance of the oxide film decreases sharply.
分 类 号:TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]
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