600nm^1200nm光学减反膜的设计  

Design of 600nm^1200nm Optical Anti-reflection Film

作　　者：石澎[1] 王丽荣[1] 钟明桂 张鸿佳 卢志坚 SHI Peng;WANG Li-rong;ZHONG Ming-gui;ZHANG Hong-jia;LU Zhi-jian(Zhongshan Torch Polytechnic,Zhongshan Guangdong 528436;Zhongshan Jingtong Optical Technology Co.,Ltd.,Zhongshan Guangdong 528437)

机构地区：[1]中山火炬职业技术学院,广东中山528436 [2]中山晶通光学技术有限公司,广东中山528437

出　　处：《中国科技纵横》2020年第11期100-101,共2页China Science & Technology Overview

基　　金：广东省科技创新战略专项资金(pdjh2020b1275);广东省普通高校青年创新人才类项目(2019GKQNCX132)。

摘　　要：针对响应600nm^1200nm的光电传感器,为了提高其光能利用率和探测灵敏度,本文采用三种方案对600nm^1200nm的光学薄膜的膜系进行了设计和分析,讨论了不同材质镜片下的方案选择,设计的光学薄膜在600nm^1200nm范围的平均反射率低于0.5%.For the photoelectric sensors that respond to 600nm^1200nm,in order to improve their light energy utilization and detection sensitivity,this paper used three schemes to design and analyze the film system of 600nm^1200nm optical film.And the choice of schemes under different material lenses was discussed.The average reflectivity of the designed optical film in the range of 600nm^1200nm is less than 0.5%.

关 键 词：减反膜 光学薄膜 膜系设计 反射率 

分 类 号：O484[理学—固体物理]