基于相干光的微电子光学测量系统技术分析  

作　　者：陆亚青[1] 

机构地区：[1]无锡科技职业学院,江苏无锡214000

出　　处：《电子元器件与信息技术》2020年第9期4-5,共2页Electronic Component and Information Technology

摘　　要：目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出。本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在微电子光学测量中的应用,并提出一套完整的系统方案,希望为进一步提高微电子测量精准度寻找出更有效的方法。

关 键 词：相干光 微电子 光学测量 光路系统 

分 类 号：TN40[电子电信—微电子学与固体电子学]