防辐射非制冷红外二次成像光学系统设计  被引量:2

Design of Anti-Radiation Secondary Imaging Uncooled Infrared Optical System

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作  者:吴海清 WU Hai-qing(Kaimai(Luoyang)Measurement and control Co.Ltd,Luoyang 471009,China;China Airborne Missile Academy,Luoyang 471009,China)

机构地区:[1]凯迈(洛阳)测控有限公司,河南洛阳471009 [2]中国空空导弹研究院,河南洛阳471009

出  处:《光学与光电技术》2020年第6期60-65,共6页Optics & Optoelectronic Technology

摘  要:为解决在高辐射环境中使用的红外热像仪,由于辐射导致其性能退化迅速的技术问题,采用二次成像两档变倍光学系统进行"L"型折叠的结构形式,设计了焦距为30/120 mm的非制冷红外双视场成像光学系统。其工作波段为8~12μm,光学系统F数为1.1。设计结果表明,该系统结构简单紧凑、体积小、成像良好,在探测器对应的特征频率301p/mm处的MTF值大于0.4,满足应用需求。In order to solve the problem that the performance of infrared imaging system rapidly degenerate in high radiation environment,an uncooled infrared dual-field imaging optical system with a focal length of 30/120 mm is designed by"L"folding of the two-stage variable optical system for secondary imaging.The operating wavelength range is 8 to 12μm,F number is 1.1.The design results show that the system has simple and compact structure,small volume and good imaging quality,so that its MTF value at the characteristic frequency 30 lp/mm corresponding to the detector is greater than0.4.It can well meet the application requirements.

关 键 词:光学设计 防辐射 非制冷红外 双视场光学系统 二次成像 

分 类 号:O439[机械工程—光学工程] TH74[理学—光学]

 

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