电致变色器件中WO3薄膜厚度的选择  

作　　者：孟政 代强[1,2] 余刚 刘静 汪洪[1,2] 

机构地区：[1]中国建筑材料科学研究总院有限公司,北京100024 [2]绿色建筑材料国家重点实验室,北京100024

出　　处：《建筑玻璃与工业玻璃》2021年第1期12-14,21,共4页Architectural Glass and Functional Glass

摘　　要：WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。

关 键 词：WO3薄膜 电致变色器件 氧化钨薄膜 三氧化钨 光学理论 晶体结构 薄膜厚度 氧化锡 

分 类 号：TB3[一般工业技术—材料科学与工程]