喷涂轨迹优化研究  

作　　者：李一良 王博文 刘子航 

机构地区：[1]华北理工大学机械工程学院,河北唐山063210

出　　处：《数码设计》2021年第2期190-190,共1页Peak Data Science

摘　　要：在陶瓷生产过程中,釉喷涂工艺用釉喷枪或釉喷涂机在压缩空气中喷雾釉,使釉粘附在粘土体上,不均匀的釉料在烧制过程中会产生裂纹,造成工件报废,所以喷涂过程中喷涂釉料的厚度要求尽可能均匀。建立椭圆双β分布模型为基础的喷枪轨迹生成方法,研究了平面分布模型,提出了基于喷涂过程仿真的涂层厚度计算方法,建立了带约束的优化函数,来优化各条轨迹的喷涂参数。首先选择喷幅覆盖区域较大的短轴为运动方向,应用解析法求解釉层厚度分布,提出了一种通用的釉层厚度求解方法,运用MATLAB进行仿真实验,得到平面喷涂的累积情况,喷枪轨迹合适的重叠区间在86.5mm。

关 键 词：化学工艺 喷釉 轨迹生成与优化 解析法 

分 类 号：RTB2