X射线光电子能谱技术在材料表面分析中的应用  

Application of X-ray Photoelectron Spectroscopy in Material Surface Analysis

作　　者：张素伟 姚雅萱[1] 高慧芳[1] 任玲玲[1] ZHANG Suwei;YAO Yaxuan;GAO Huifang;REN Lingling(National Institute of Metrology,Beijing 100029,China)

机构地区：[1]中国计量科学研究院,北京100029

出　　处：《计量科学与技术》2021年第1期40-44,共5页Metrology Science and Technology

基　　金：中国计量科学研究院基本业务费项目(AKY1949)。

摘　　要：X射线光电子能谱技术是一种表面分析技术,不仅能够定性和定量分析材料表面的元素组成和含量,而且可以分析元素的化学价态、化学键等信息。本文通过阐述XPS的基本原理、应用、特点、常见问题及解决办法等,讨论了X射线光电子能谱技术在材料表面分析中的具体应用,并展望了其在计量领域的发展前景。X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)is a surface analysis technique that can not only qualitatively and quantitatively analyze the elemental composition and content of material surfaces,but also analyze the chemical valence of elements,chemical bonding,and other information.This paper discusses the specific applications of X-ray photoelectron spectroscopy in material surface analysis and looks forward to its development in the field of metrology by describing the basic principles,applications,characteristics,common problems,and solutions of XPS.

关 键 词：X射线光电子能谱 结合能 表面分析 定性分析 定量分析 

分 类 号：TB302[一般工业技术—材料科学与工程]