精神分裂症脑部CT改变及相关分析  

作　　者：黄海霞 陈建 

机构地区：[1]镇江市精神卫生中心放射科,江苏镇江212000

出　　处：《影像研究与医学应用》2021年第3期183-184,共2页Journal of Imaging Research and Medical Applications

摘　　要：目的:探讨精神分裂症患者脑部CT的影像特点。方法:选取2017年3月—2020年9月在本院住院的精神分裂症患者90例作为研究组,同期选取在本院健康体检的人员90例作为对照组。入组对象接受头颅CT检查,并测左侧额叶CT值,分析精神分裂症患者脑结构及左侧额叶CT值的变化。结果:研究组皮质型、髓质型及混合型脑萎缩的发生率依次为10.00%、12.22%、24.44%,对照组依次为1.11%、2.22%、4.44%,研究组脑结构异常发生率高于对照组P<0.05。研究组左侧额叶CT均值为(33.28±3.25)Hu,低于对照组左侧额叶CT均值(36.17±2.06)Hu,差别有统计学意义P<0.05。结论:精神分裂症与脑结构及左侧额叶CT值变化存在联系,头颅CT作为首先初步筛查,为临床医生提供必要的影像资料,具有重要临床意义。

关 键 词：精神分裂症 脑部CT 额叶 

分 类 号：R816.1[医药卫生—放射医学]