浅谈不同化学成分对光敏电阻薄膜特性的影响——以高PbI_(2)掺杂水平的钙钛矿光阻膜、Bi_(2)S_(3)光阻膜、ZnO光阻膜为例  

作　　者：沈雪明 朱洪德 

机构地区：[1]中国地质大学(北京)信息工程学院,北京100080

出　　处：《电子元器件与信息技术》2020年第11期1-2,共2页Electronic Component and Information Technology

摘　　要：光敏电阻是一种特殊的电阻,通常以硫化镉或硒化镉为材料制成,其工作原理是基于内光电效应。其阻值随着光照的增强而降低,由于其特殊的性能,使得它在各个领域都得到了广泛应用。并且,根据材料的成分或比例不同,不同的光敏电阻所表现出的光电特性也大相径庭。本文主要讨论了三种不同化学成分的光敏电阻薄膜所表现出的不同的物理特性与其适用的场合。

关 键 词：光敏电阻 材料 光敏特性 

分 类 号：O611.4[理学—无机化学] TB383.2[理学—化学]