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作 者:王丽 温德奇 田崇彪 宋远红[1] 王友年[1] Wang Li;Wen De-Qi;Tian Chong-Biao;Song Yuan-Hong;Wang You-Nian(School of Physics,Dalian University of Technology,Dalian 116024,China;Department of Electrical Engineering and Information Science,Ruhr-University Bochum,Bochum D-44780,Germany;Department of Electrical and Computer Engineering,Michigan State University,East Lansing 48823,USA)
机构地区:[1]大连理工大学物理学院,大连116024 [2]德国波鸿鲁尔大学电子工程与信息科学学院,波鸿D-44780 [3]美国密歇根州立大学电子与计算机工程学院,东兰辛48823
出 处:《物理学报》2021年第9期80-98,共19页Acta Physica Sinica
基 金:国家自然科学基金(批准号:12020101005,11975067);国家留学基金管理委员会(批准号:201906060024)资助的课题。
摘 要:容性耦合等离子体放电因在工业界有重要的应用价值而受到广泛关注.对于容性耦合等离子体放电的研究主要集中于对等离子体参数的控制,以实现更好的工艺效果,例如高深宽比刻蚀等.而关于等离子体参数的调控主要分为气体、腔室以及源这三个方面.改变这些外部参数,可以直接影响鞘层的动力学过程以及带电粒子的加热过程,进而实现对电子和离子能量、通量,等离子体均匀性,中性基团的密度等的控制,最终提高工艺质量和生产效率.本文梳理了近些年容性耦合等离子体研究的几个主要方向,尤其对等离子体放电中非常基础且重要的电子加热动力学问题进行了详尽的讨论,并重点介绍了一些通过外部放电参数调控容性耦合等离子体放电的手段和相关的研究热点.Capacitively coupled plasma(CCP)has gain wide attention due to its important applications in industry.The researches of CCP mainly focus on the discharge characteristics and plasma parameters under different discharge conditions to obtain a good understanding of the discharge,find good methods of controlling the charged particle properties,and improve the process performance and efficiency.The controlling of plasma parameters is based on the following three aspects:gas,chamber,and power source.Changing these discharge conditions can directly influence the sheath dynamics and the charged particle heating process,which can further influence the electron and ion distribution functions,the plasma uniformity,and the production of neutral particles,etc.Based on a review of the recent years’researches of CCP,the electron heating dynamics and several common methods of controlling the plasma parameters,i.e.voltage waveform tailoring,realistic secondary electron emission,and magnetized capacitively coupled plasma are introduced and discussed in detail in this work.
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