检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:吴桐 赖龙伟[1,3] 俞路阳 袁任贤[1,3] 陈健 阎映炳[1,3] 冷用斌 Wu Tong;Lai Longwei;Yu Luyang;Yuan Renxian;Chen Jian;Yan Yingbing;Leng Yongbin(Shanghai Institute of Applied Physics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China;University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China;Shanghai Advanced Research Institute,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201210,China)
机构地区:[1]中国科学院上海应用物理研究所,上海201800 [2]中国科学院大学,北京100049 [3]中国科学院上海高等研究院,上海201210
出 处:《强激光与粒子束》2021年第5期97-102,共6页High Power Laser and Particle Beams
基 金:国家重点研发计划项目(2016YFA0401903,2016YFA0401900);中国科学院青年创新促进会项目(2019290)。
摘 要:上海软X射线自由电子激光装置(SXFEL)作为中国第一台工作在软X射线波段的第四代光源,其产生的激光具备短波长、全相干、超高亮度、超短脉冲长度等优点,预期将会在基础科学研究领域中发挥出重要的作用。基于直线加速器的特点和需求,在SXFEL的注入器与直线加速段上选择了条带型束流位置测量系统(SBPM)作为束团位置测量工具。该系统由SXFEL束测团队自主研发设计,由条带探头、前端信号调理电子学与专用数字信号束流位置处理器(DBPM)组成,系统设计上借鉴上海同步辐射光源(SSRF)的同类型设备,并根据SXFEL的特点做了进一步的优化,束流实验结果表明该系统位置测量系统分辨率好于5.7μm@188 pC,达到国际先进水平,满足了SXFEL注入器和直线加速器段对束流位置测量分辨率的设计要求。Shanghai Soft X-ray Free Electron Laser(SXFEL)is the first fourth-generation light source in China that can work in soft X-ray band.With the advantages of short wavelength,full coherence,ultra-high brightness,and ultra-short pulse,it is expected to play an important role in basic science research.Based on the characteristics of the linear accelerator,the stripline beam position monitor(SBPM)was selected as the beam position measurement tool in the injection section and the straight section.The system is mainly composed of the probe,the front-end electronics system,and the digital beam position monitor(DBPM).The design draws on the same type of device from Shanghai Synchrotron Radiation Facility(SSRF)and is further optimized according to the characteristics of SXFEL.Finally,the beam experiment results show that the resolution reaches 5.7μm@188 pC,which meets the requirements for beam position resolution of SXFEL.
关 键 词:上海软X射线自由电子激光 束测 束流位置测量 条带型 数字信号处理
分 类 号:TL506[核科学技术—核技术及应用]
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