上海光机所在紫外减反射激光薄膜研究中取得进展  

作　　者：新型 

机构地区：[1]不详

出　　处：《化工新型材料》2021年第5期276-276,共1页New Chemical Materials

摘　　要：中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在基于低温等离子体增强原子层沉积的紫外减反射激光薄膜研究中取得新进展,初步实现了紫外减反射薄膜的损伤阈值提升。原子层沉积技术具有精确的厚度可控性、高均匀性、优异的共形性和较高的激光损伤阈值,在激光薄膜领域具有良好前景。

关 键 词：激光损伤阈值 薄膜光学 上海光机所 减反射 中国科学院 激光薄膜 等离子体增强原子层沉积 高均匀性 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]