锰氧化物薄膜制备工艺  

作　　者：陈世杰 杨俊红 

机构地区：[1]苏州科技大学,江苏苏州215009

出　　处：《光源与照明》2021年第2期40-41,共2页Lamps & Lighting

摘　　要：文章主要介绍了CMR超巨磁电阻效应、脉冲激光溅射沉积薄膜制备技术,及锰氧化物薄膜的特点性应用前景。首先,介绍巨磁电阻效应(GMR)和超巨磁电阻效应(CMR)发展历史及其原理和应用;其次,介绍锰氧化物薄膜所要用到的脉冲激光溅射沉积薄膜(PLD)技术的原理和制备过程,并介绍了其制备薄膜的特点和优势;最后,介绍锰氧化物薄膜,先举La_(0.8)Bi_(0.2)MnO_3(LBMO)薄膜的例子,分步介绍其利用PLD的制备过程,再介绍LBMO的特性,通过LBMO的介绍引出锰氧化物薄膜的应用前景和未来可能遇到的研究困境。

关 键 词：锰氧化物薄膜 巨磁电阻效应 超巨磁电阻技术 脉冲激光溅射技术 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]