碳纳米管场发射电流密度衰减特性的研究进展  

作　　者：郑荣坤 肖红军[1] 刘方军 

机构地区：[1]佛山科学技术学院机电工程与自动化学院,广东佛山528200

出　　处：《机电信息》2021年第23期63-65,共3页

基　　金：2020年佛山科学技术学院研究生自由探索基金项目(2020ZYTS03)。

摘　　要：从1995年碳纳米管场发射实验研究报道以来,碳纳米管因其优异的电学特性、大长径比,被认为是21世纪最具有应用潜力和研究价值的场发射电子源。然而,碳纳米管的发射电流密度不稳定问题严重困扰着人们对其进一步开发应用,在高电压下高电流密度维持不稳定、寿命短等问题一直是器件应用的主要障碍。现主要从碳纳米管场发射电流密度的影响因素入手,介绍接触电阻、空间电荷效应以及相邻碳纳米管间的相互作用等3种可能导致场发射电流密度不稳定、降低的物理机理,对碳纳米管场发射器件分析和应用具有参考意义。

关 键 词：碳纳米管 场致发射 电流密度 

分 类 号：TQ127.11[化学工程—无机化工] TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]