利用化学溶液法制备硫化铅薄膜及其特性研究  

作　　者：兰慧琴[1] 

机构地区：[1]福建船政交通职业学院机械与智能制造学院,福建福州350007

出　　处：《机电技术》2021年第6期55-58,89,共5页Mechanical & Electrical Technology

摘　　要：通过化学溶液法在玻璃基片上沉积硫化铅(PbS)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌,采用X射线衍射(XRD)技术分析薄膜的结晶性能,利用透射光谱分析薄膜的光学性质。研究了退火对PbS薄膜性能的影响。结果表明:经过250℃退火处理,减小了PbS薄膜表面颗粒的平均高度,细化了PbS薄膜的晶粒大小,并改善了PbS薄膜表面形貌的均匀性;退火不改变PbS薄膜的晶体结构,其晶体结构依然是立方晶型;但退火后PbS薄膜的透过率明显降低。

关 键 词：硫化铅薄膜 化学浴沉积法 退火 

分 类 号：TN213[电子电信—物理电子学]