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作 者:鲍瑞[1] 张双银 易健宏[1] 普友福 张家涛 Bao Rui;Zhang Shuangyin;Yi Jianhong;Pu Youfu;Zhang Jiatao(Faculty of Materials Science and Engineering,Kunming University of Science and Technology,Kunming Yunnan 650093,China;R&D Center,Yunnan Tin Group(Holding)Company Limited,Kunming Yunnan 650106,China)
机构地区:[1]昆明理工大学材料科学与工程学院,云南昆明650093 [2]云南锡业集团(控股)有限责任公司研发中心,云南昆明650106
出 处:《硬质合金》2021年第6期446-453,共8页Cemented Carbides
基 金:云南锡业集团(控股)有限责任公司横向课题《高纯超细钨粉制备技术研究开发》(No.2021530101000284);钨资源高效开发及应用教育部工程研究中心开放课题拟资助项目《微波反应烧结制备超细WC-Co硬质合金组织与性能研究》(W-2021ZD001);云南省科技厅重大科技专项云南省稀贵金属材料基因工程(No.2019ZE001,No.202002AB080001);国家自然基金项目面上项目《三维碳纳米增强体基元的构筑及其在铜基复合材料中的组织结构演变、协同作用及力学功能特性共同增强机制研究》(52174345);国家自然基金项目地区项目《基于喷雾热解碳纳米管/铜复合材料的制备工艺、显微组织及热学性能的研究》(52064032)。
摘 要:高纯钨具有高抗电子迁移、高硬度和高熔点等优良性能而被广泛应用于制备溅射靶材、放电灯电极和高温炉构件等。本文综述了高纯钨的除杂方法和痕量杂质检测方法,着重介绍了高纯钨的湿法除杂法(沉淀法、氨溶结晶法、溶剂萃取法和离子交换法)和火法除杂法(电子束熔炼法、区域熔炼法和化学气相沉积法)的原理、优缺点和应用现状,并指出了未来高纯钨除杂方法需要重点解决的几个问题,从而为设计高效合理的除杂方案提供理论和技术支持。High purity tungsten is widely used in sputtering targets,discharge lamp electrodes and high temperaturefurnace components because of its excellent properties of high electron migration resistance,high hardness and high meltingpoint.In this paper,the impurity removal methods and trace impurity detection methods of high-puritytungstenaresummarized.The principles,advantages,disadvantages and application status of wet impurity removal methods(precipitation method,ammonia crystallization method,solvent extraction method,andion exchange method)and fire impurityremoval methods(electron beam melting method,regional melting method,and chemical vapor deposition)of high-puritytungsten are emphatically introduced.At last,several key problems to be solved in the future impurity removal methods ofhigh-purity tungsten are pointed out,so as to provide theoretical and technical support for the design of efficient andreasonable impurity removal schemes.
分 类 号:TG146.411[一般工业技术—材料科学与工程]
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