胚胎颅颌面部发育中的电生理学研究进展  

作　　者：张思荻(综述) 郑谦[1] 石冰[1] 贾仲林(审校)[1] 

机构地区：[1]口腔疾病研究国家重点实验室,国家口腔疾病临床医学研究中心,四川大学华西口腔医院唇腭裂外科,四川成都610041

出　　处：《临床口腔医学杂志》2022年第2期116-119,共4页Journal of Clinical Stomatology

基　　金：国家自然科学基金面上项目(82170919);四川省科技厅应用基础项目重大前沿课题(2020YJ0211)。

摘　　要：脊椎动物的胚胎有稳定电势差,不同部位和胚胎发育时期的皮肤电势差不同。肢体发育早期就存在生理性电场,正常极性和大小的内源性电场参与神经系统和其他组织的正常发育和空间结构的形成。纤维细胞、神经细胞和大多数上皮细胞都有朝向阴极的趋电性,肌细胞对电场的反应则与其他细胞不同。内向整流钾离子通道Kir2.1在胚胎的颌面部发育中起重要作用,其突变会引起腭裂等颅颌面发育畸形。本文将围绕胚胎发育中的电信号、不同类型细胞对电场的反应、颅颌面发育的相关离子通道等方面的研究进展进行综述,提示生理性电场可能作为局部微环境与唇腭裂的发生相关,为未来对内源性电场在颅颌面发育异常和唇腭裂致病机制中作用的深入研究提供参考。

关 键 词：电场 胚胎 发育 颅颌面 腭裂 

分 类 号：R321[医药卫生—人体解剖和组织胚胎学] R78[医药卫生—基础医学]