浅谈低吸全抛釉窑炉控制方法  

Brief talking about kiln controlling of full pollished glaze with low water absorbing

作　　者：殷少泽 张欢乐 张建东 高名恒 钱正平 王安章 YIN Shao-ze

机构地区：[1]山西东鹏新材料有限公司,运城044000 [2]佛山市东鹏陶瓷有限公司,佛山528000

出　　处：《佛山陶瓷》2022年第4期15-17,共3页Foshan Ceramics

摘　　要：陶瓷界一直流传一句话:生在原料,死在窑炉。生在原料意思就是选到好的原材料不但可以降低生产成本,还有利于烧成质量稳定;死在窑炉是指窑炉气氛复杂,控制难度很高,稍不注意就容易造成批量性生产质量事故;所以各个陶瓷企业都非常关注窑炉工艺参数的控制。特别是低吸全抛釉产品(吸水率低于0.5%),由于吸水率低,烧成温度高,生产过程中极易因为窑炉控制不当,造成质量问题。本文主要对低吸全抛釉产品窑炉控制方法进行概述。

关 键 词：低吸全抛釉 窑炉 环温 吸水率 走位 光泽度 

分 类 号：TQ174.65[化学工程—陶瓷工业]