基于流体动力学的小口径磁流变抛光过程机制分析方法  

作　　者：杨航 周俊 张云飞[2] 黄文[2] 何建国[2] 

机构地区：[1]遵义师范学院工学院,贵州遵义563006 [2]中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900

出　　处：《科技与创新》2022年第9期61-64,共4页Science and Technology & Innovation

基　　金：国家“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项“巨型激光装置光学元件超精密制造系统示范工程”课题资助(编号:2017ZX04022001);贵州省基础研究计划(编号:黔科合基础-ZK[2021]一般272);遵义市科技局科技研发项目(编号:遵市科合HZ字[2020]21号)。

摘　　要：磁流变抛光技术是在光学发展中为满足光学元件加工精度的要求,而衍生出的一种新型精密抛光技术。通过对磁流变抛光技术原理的研究提出其核心技术的关键因素。根据核心技术的影响因素设置问题和工艺参数,结合流体动力学的研究方法和理论,分析磁流变液密度、流速对磁流变抛光技术工艺加工的质量和效率的影响,并使用有限元分析软件对抛光过程进行仿真。对磁流变抛光过程抛光区域进行局部模拟仿真分析,并开展交叉参数进行验证。将不同密度的磁流变液分别设置为相同状态下的空气和水,并对初始速度进行对照实验验证。发现了磁流变液的速度、压强和磁流变液的密度这几个工艺参数之间的相互作用机制与内在联系。

关 键 词：磁流变抛光 小口径光学原件 流体动力学 工艺参数 

分 类 号：TH164[机械工程—机械制造及自动化]