大能量177.3 nm真空紫外激光研究  

作　　者：温宁 宗楠[1,2] 张申金[1,2] 高宏伟[1,2] 薄勇[1,2] 彭钦军[1,2] 崔大复[1,2] 许祖彦[1,2] 汪楠[4] 林学春[4] 

机构地区：[1]中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光技术重点实验室,北京100190 [2]中国科学院理化技术研究所固体激光重点实验室,北京100190 [3]中国科学院大学,北京100190 [4]中国科学院半导体研究所全固态光源实验室,北京100083

出　　处：《中国激光》2022年第11期227-228,共2页Chinese Journal of Lasers

摘　　要：真空紫外(波长短于180 nm)全固态激光(VUV-DPL)凭借其光子能量高及可满足精密化和实用化需求等优势在谱仪和光电子显微镜等领域中有广泛应用。此外,大能量VUV激光可用于超精细加工,成倍提高加工精度,也可作为大型光刻机的种子激光源。因此,为了扩大VUV-DPL的应用范围,我们研究了高脉冲能量177.3 nm VUV激光。

关 键 词：超精细加工 全固态激光 光电子显微镜 光子能量 高脉冲能量 真空紫外 光刻机 DPL 

分 类 号：TN249[电子电信—物理电子学] TN23