化学抛光设备视觉检测系统设计  

Design of Visual Inspection System for Chemical Polishing Equipment

作　　者：李斌[1] 林晨 张博 薛书亮 LI Bin;LIN Chen;ZHANG Bo;XUE Shuliang(The 45th Research Institute of CETC,Beijing 100176,China)

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176

出　　处：《电子工业专用设备》2022年第4期33-38,61,共7页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：通过对视觉检测需求分析,设计了一款用于化学抛光设备的视觉检测系统,实现了多种规格晶片的视觉检测,并介绍了系统设计的方法与视觉识别的关键流程。By analyzing the requirements of visual inspection,a visual inspection system for chemical polishing equipment is designed,which can carry out visual inspection of wafer trays of various sizes,and the implementation method and key process are given.

关 键 词：碲锌镉 视觉检测系统 系统设计 

分 类 号：TN305.1[电子电信—物理电子学]