检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:王占山[1] 刘华松[2] 张锦龙[1] WANG Zhanshan;LIU Huasong;ZHANG Jinlong
机构地区:[1]同济大学物理科学与工程学院 [2]天津津航技术物理研究所
出 处:《光子学报》2022年第9期1-19,共19页Acta Photonica Sinica
摘 要:光学薄膜器件因具有对光场多样化、高效性调控能力,已然成为光学系统和光电子系统的基石,在科学研究、消费电子、光纤通信、生物医学、激光制造等领域有广泛的应用前景。近几十年来,在重大光学工程、光学产业需求的牵引下,光学薄膜已发展成为集薄膜设计、新型薄膜材料、薄膜制备技术、薄膜精确表征技术等的综合性研究领域。目前光学薄膜的研究重点包括但不限于:以典型光谱为代表的高性能光学薄膜设计与制备技术;新型光学薄膜材料的拓展及性能调控;针对应用需求的薄膜研制,如空间用耐辐射薄膜器件、高能激光系统用激光薄膜器件;薄膜性能的精确表征,如低损耗光学薄膜表征技术、特殊环境光学薄膜性能评估与测试方法等。
关 键 词:光学薄膜 光学工程 薄膜性能 薄膜器件 薄膜制备技术 表征技术 激光制造 新型薄膜
分 类 号:TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]
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