我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构  

出　　处：《河南科技》2022年第18期2-2,共1页Henan Science and Technology

摘　　要：2022年9月14日,国际顶级学术期刊《自然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术,将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部,通过控制激光移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三维结构的直写和擦除。这一新技术,突破了传统飞秒激光的光衍射极限,把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸,从传统的1μm量级(相当于头发丝的五十分之一),首次缩小到纳米级,达到30 nm,大大提高了加工精度。

关 键 词：科研团队 南京大学 飞秒脉冲激光 三维结构 学术期刊 头发丝 铌酸锂 飞秒激光 

分 类 号：TN249[电子电信—物理电子学] TN405