我国集成电路布图设计专门法保护中的基本问题——以布图设计保护范围的确定为中心  

On the Basic Issues of Special Regulations for the Protection of Layout-design of Integrated Circuits: Centered on the Protection Scope of Layout-design

作　　者：雷艳珍 Lei Yanzhen

机构地区：[1]最高人民法院知识产权法庭

出　　处：《法律适用》2023年第2期124-133,共10页Journal of Law Application

基　　金：国家知识产权局学术委员会2021年专利专项研究项目“集成电路领域知识产权保护规则研究”(课题编号:ZX202108)研究成果,课题承担单位:中南财经政法大学、最高人民法院知识产权法庭。

摘　　要：自美国首次对集成电路布图设计提供专门法保护以来,技术经历了飞速发展,基于目前我国集成电路产业发展阶段和技术发展水平,在当前乃至未来一定时期内对布图设计提供专门法保护仍然是必要的。无论从客体性质,还是国际条约、国内立法的相关规定来看,布图设计的内容不具有可简化性,行政登记用于确定布图设计内容,而非公开布图设计内容。因此,登记时提交的纸件、复制件、样品都可以用于确定布图设计的保护范围。对独创性的审查,应首先确定适格客体,然后以权利人提出的独创性部分为依据进行综合判断。

关 键 词：集成电路布图设计 专门法 必要性 保护范围 行政登记 独创性 

分 类 号：D923.4[政治法律—民商法学]