基于180nm工艺的SoC芯片设计DRC验证分析  

Analysis of DRC Verification of SoC Chip Design Based on 180nm Process

作　　者：王鹏 WANG Peng(Shanghai Aisi'er Education Technology Co.,Ltd.,Shanghai 200131,China.)

机构地区：[1]上海爱思尔教育科技有限公司,上海200131

出　　处：《电子技术（上海）》2023年第6期1-3,共3页Electronic Technology

摘　　要：阐述一款SoC芯片在180nm工艺中的DRC验证流程和方法,探讨使用后端设计工具Innovus导出GDSII数据时MapFile文件的设置、DummyMetal的添加、GDSII数据的合并,最终通过Calibredrv打开GDSII数据,查看DRC结果,提出修复DRC错误的方法。This paper describes the DRC verification process and method of a SoC chip in the 180nm process,and discusses the MapFile file setting,the addition of DummyMetal,and the combination of GDSII data when using the back-end design tool Innovus to export GDSII data.Finally,open GDSII data through Calibredrv,view DRC results,and fix DRC errors.

关 键 词：集成电路设计 DRC验证 GDSII DUMMY 

分 类 号：TN402[电子电信—微电子学与固体电子学]